[LT] Išradimas priklauso lengvajai pramonei ir gali būti panaudotas odų paruošime šikšninimui.@Aprašomas plikės gavimo būdas, įgyvendinamas per dvi stadijas A ir B, pastarąją vykdant A stadijos tirpale (medžiagų kiekiai pateikti % nuo odų žaliavos masės):@A stadija - skysčio koeficientas (sk. k.) - 0,6, temperatūra - 23-25 °C, trukmė - 3 val., NaOH - 2-3 %, Na2HPO4 - 1,5-2,0 %, Na2S - 0,55-0,65 %, režimas - maišoma nepertraukiamai.@B stadija - sk. k. padidinamas iki 1,0, temperatūra - 20-25 °C, trukmė 9-13 val., Na2HPO4 -1,5-2,0 %, režimas - 1 val. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje.@Naudojant šį plikės gavimo būdą pagerėja plaukų suardymo kokybė, sumažėja kolageninių baltymų ardymas, tuo pačiu pagerėja plikės ir gatavos šikšnos kokybė.
[EN] The present invention relates to a process for the producing of hides. For this purpose, this process consists of two stages A and B, and the stage B is taking place in the stage A solution.@Stage A:a liquid coefficient (l.k.) is 0,6; a temperature is between 23 and 25 °C; a duration of treatment is 3 h; NaOH -2-3 % of hide mass; Na2HPO4- 1,5-2,0 %; Na2S- 0,55-0,65 %; a regime- continuous stirring;@Stage B: a l.k. is increased to 1,0; a duration- 9-13 h; Na2HPO4-1,5-2,2 %; a regime- 1 h stirring at 23-25 °C temperature and after that was remained. @This process improves the quality of destroying of hair, decreases the destruction of collagenous proteins and increases the quality of hides and blosse.
[0001] Išradimas priklauso lengvajai pramonei ir gali būti panaudotas odų paruošime šikšninimui.
[0002] Žinomas plikės gavimo būdas, kur odų apdorojimas vykdomas esant skysčio koeficientui (sk.k.) - 0,3-0,8, tirpalu susidedančiu iš (%): natrio sulfido - 0,8-2,5, natrio šarmo - 0,5-2,0, vandens - 30-50, emulsiklio - 0,5-2,0, hidrofobinio tirpiklio - likusi dalis (žiūr. buv. TSRS aut. liud. Nr. 825639, TPK 0140 1/06, 1981).
[0003] Naudojant šj būdą sunaudojami dideli kiekiai hidrofobinio tirpiklio, kuris yra santykinai brangus, jo regeneracijai reikalinga sudėtinga aparatūra. Be to, tirpiklis proceso metu garuotų j aplinką ir ją terštų.
[0004] Artimiausias siūlomam sprendimui yra plikės gavimo būdas, kai plikė gaunama per dvi stadijas A ir B, pastarąją vykdant A stadijos tirpale (medžiagų kiekiai pateikti % nuo odų žaliavos masės): A stadija - sk.k. - 0,3, temperatūra -25-28°C, trukmė - 3 vai., Na2S04 vandeninis tirpalas (100 g/l) - 20%, NaOH vandeninis tirpalas (50%-nis) - 10%, režimas - maišoma nepertraukiamai.
[0005] B stadija. Sk.k. padidinamas iki 1,5, temperatūra -25-28°C, trukmė - 9-13 vai., Na2S04 vandeninis tirpalas (100 g/l) - 130%, režimas - 1 vai. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje (žiūr. VFR patentą Nr.2714813, TPK C14C 1/00, 1979).
[0006] Naudojant ši būdą negaunama kokybiško plaukų dangos suardymo, proceso metu stipriai ardomi kolageniniai baltymai, dėl tos priežasties pablogėja gatavų šikšnų kokybė.
[0007] Išradimo tikslas - pagerinti gatavos šikšnos kokybę, pagerinant plaukų dangos suardymo kokybę, sumažinant kolageninių baltymų ardymą ir sumažinti cheminių medžiagų sunaudojimą.
[0008] Šis tikslas pasiekiamas vykdant plikinimo procesą dviejomis stadijomis A ir B, pastarąją vykdant A stadijos tirpale(medžiagų kiekiai pateikti % nuo odų žaliavos masės): A stadija - sk.k. - 0,6, temperatūra - 23-25°C, trukmė - 3 vai., NaOH - 2-3%, Na2HP04 - 1,5-2,0%, Na2S - 0,55-0,65%, režimas - maišoma nepertraukiamai.
[0009] B stadija - sk.k. padidinamas iki 1,0, temperatūra - 23-25°C, trukmė - 9-13 vai., Na2HP04 -1,5-2,0%, režimas -1 vai. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje.
[0010] Naudojant šį plikės gavimo būdą pagerėja plaukų suardymo kokybė, sumažėja kolageninių baltymų ardymas, tuo pačiu pagerėja plikės ir gatavos šikšnos kokybė.
[0011] 1 pav. Odų žaliava po atmirkymo apdorojama pagal tokią metodiką: A stadija - sk.k. - 0,6, temperatūra - 25°C, trukmė - 3 vai., NaOH -1%, Na2HP04 - 3%, Na2S - 0,55%, režimas - maišoma nepertraukiamai.
[0012] B stadija vykdoma A stadijos tirpale. Sk.k. padidinamas iki 1,0, temperatūra - 25°C, trukmė - 13 vai., Na2HP04 - 2,0%, režimas - 1 vai. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje. 2 pav. Odų žaliava po atmirkymo apdorojama pagal tokią metodiką: A stadija - sk.k. - 0,6, temperatūra - 25°C, trukmė - 3 vai., NaOH - 2%, Na2HP04 -1,5%, Na2S - 0,6%, režimas - maišoma nepertraukiamai.
[0013] B stadija vykdoma A stadijos tirpale. Sk.k. padidinamas iki 1,0, temperatūra - 25°C, trukmė - 13 vai., Na2HP04 - 1,5%, režimas - 1 vai. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje. 3 pav. Odų žaliava po atmirkymo apdorojama pagal tokią metodiką: A stadija - sk.k. - 0,6, temperatūra - 25°C, trukmė - 3 vai., NaOH - 2,5%, Na2HP04 - 2%, Na2S - 0,6%, režimas - maišoma nepertraukiamai.
[0014] B stadija vykdoma A stadijos tirpale. Sk.k. padidinamas iki 1,0, temperatūra - 25°C, trukmė - 13 vai., Na2HP04 - 2%, režimas - 1 vai. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje. 4 pav. Odų žaliava po atmirkymo apdorojama pagal tokią metodiką: A stadija - sk.k. - 0,6, temperatūra - 23°C, trukmė - 3 vai., NaOH - 3%, Na2HP04 - 2%, Na2S - 0,55%, režimas - maišoma nepertraukiamai.
[0015] B stadija vykdoma A stadijos tirpale. Sk.k. padidinamas iki 1,0, temperatūra - 23°C, trukmė - 9 vai., Na2HP04 - 2%, režimas - 1 vai. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje. 5 pav. Odų žaliava po atmirkymo apdorojama pagal tokią metodiką: A stadija - sk.k. - 0,6, temperatūra - 23°C, trukmė - 3 vai., NaOH - 4%, Na2HP04 -1%, Na2S - 0,6%, režimas - maišoma nepertraukiamai.
[0016] B stadija vykdoma A stadijos tirpale. Sk.k. padidinamas iki 1,0, temperatūra - 23°C, trukmė - 9 vai., Na2HP04 - 1%, režimas - 1 vai. maišoma nepertraukiamai, po to paliekama ramybės būklėje.
[0017] Pagal žinomą būdą ir nurodytus pavyzdžiuose siūlomo būdo variantus gauta plikė ir nustatyti jos kokybiniai rodikliai: plaukų dangos suardymas ir kolageninių baltymų ardymas.
[0018] Plaukų dangos suardymo kokybė vertinta organoleptiškai, pagal sąlyginę balų sistemą: 0 - plaukai nepažeisti, 1 - plaukai apardyti, 2 - plaukų danga suardyta, tačiau nepasišalinusi nuo išviršinio sluoksnio, 3 - išviršinis sluoksnis švarus.
[0019] Kolageninių baltymų ardymas vertintas pagal oksiprolino kiekį apdorojimo tirpaluose. Plaukų dangos ir kolageno ardymo nustatymo rezultatai pateikti lentelėje.
[0020] Naudojant mažesnius negu 2% NaOH bei didesnius negu 2% Na2HP04 kiekius, pablogėja plaukų dangos ardymas, o naudojant didesnius negu 3% NaOH, bei mažesnius negu 1,5% Na2HP04 kiekius, padidėja kolageninių baltymų ardymas.
[0021] Tokiu būdu, variantai aprašyti 2, 3 ir 4 pavyzdžiuose tinka plikės gavimui.
[0022] Siūlomas išradimas, lyginant su žinomu, pasižymi tokiais privalumais: - pagerėja gatavos šikšnos kokybė, nes pagerėja plaukų dangos ardymas ir sumažėja kolageninių baltymų ardymas. - sumažėja cheminių medžiagų sunaudojimas, nes naudojant Na2HP04 yra efektyviau mažinamas kolageno ardymas, tuo pačiu šios medžiagos nedidelio kiekio naudojimas kartu su nedideliu kiekiu Na2S pagerina plaukų ardymo procesą, todėl tuo pačiu kokybiškam plaukų dangos suardymui nereikalingi tokie dideli NaOH kiekiai. NaOH sunaudojimas sumažėja nuo 5 iki 2-3% odų žaliavos masės. Na2S04 žinomame būde sunaudojama 15%, o Na2HP04 ir Na2S kartu - 3,55-4,6% odų žaliavos masės.
1. Plikės gavimo būdas, vykdomas per dvi stadijas A ir B, pastarąją vykdant A stadijos tirpale, naudojant natrio šarmą ir druską, b e s i s k i r i a n t i s tuo, kad kaip druską stadijoje A naudoja Na2S ir Na2HP04, o stadijoje B - Na2HP04.
2. Plikės gavimo būdas pagal 1 punktą, besiskiriantis tuo, kad stadijoje A deda 2,0-3,0% odų žaliavos masės NaOH, 0,55-0,6% odų žaliavos masės Na2S ir 1,5-2,0% odų žaliavos masės Na2HP04, o stadijoje B deda 1,5-2,0% odų žaliavos masės Na2HP04.