|
|
Legal status
Application published
| (51) | INT.CL.: (2026.01) |
H01L 29/00 H01L 21/00 |
| (11) | Number of the document | |
| (13) | Kind of document | A |
| (21) | Application number | 2024 537 |
| (22) | Date of filing the application | 2024-10-30 |
| (41) | Date of publication of the application | 2026-05-11 |
| (45) | Date of publication of patent |
| (71) |
Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras,
Savanorių pr. 231, 02300 Vilnius,
LT
|
| (72) |
Eimutis JUZELIŪNAS, LT
Skirmantė TUTLIENĖ, LT Aldis ŠILĖNAS, LT Asta GRIGUCEVIČIENĖ, LT Konstantinas LEINARTAS, LT Laurynas STAIŠIŪNAS, LT |
| (73) |
Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras,
Savanorių pr. 231, 02300 Vilnius,
LT
|
| (74) |
Otilija KLIMAITIENĖ,
AAA Law, A. Goštauto g. 40B, Verslo centras "Dvyniai", LT-03163 Vilnius,
LT
|
| (54) | SILICON SEMICONDUCTOR DEVICE WITH A THIN METAL OXIDE LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |