Herbas VPB

Print
EN | LT
LT - Fotoelektrocheminis silicio pagrindu dangų formavimo joniniuose skysčiuose būdas
EN - PHOTOELECTROCHEMICAL METHOD OF FORMING SILICON COATINGS IN IONIC LIQUIDS

Legal status

Patent in force

Bibliographic data
Indications of the International Patent Classification (IPC)
(51) INT.CL.: (2025.01) C01B 33/00
C25D 13/02
B05D 7/00
Patent
(11) Number of the document 7118
(13) Kind of document B
(21) Application number 2023 519
(22) Date of filing the application 2023-05-19
(41) Date of publication of the application 2024-11-25
(45) Date of publication of patent 2025-01-27
Applicant
(71) Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras, Savanorių pr. 231, 02300 Vilnius, LT
Inventors
(72) Eimutis JUZELIŪNAS, LT
Putinas KALINAUSKAS, LT
Asta GRIGUCEVIČIENĖ, LT
Konstantinas LEINARTAS, LT
Laurynas STAIŠIŪNAS, LT
Grantee
(73) Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras, Savanorių pr. 231, 02300 Vilnius, LT
Attorney or representative
(74) Virgina Adolfina DRAUGELIENĖ, UAB TARPINĖ, A.P.Kavoliuko g. 24-152, LT-04328 Vilnius, LT
Title
(54) PHOTOELECTROCHEMICAL METHOD OF FORMING SILICON COATINGS IN IONIC LIQUIDS
Last renewal fee
Payment date Validity (years) Amount
2025-04-17 3 81.00 EUR
Next renewal fee
2026-05-19