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Teisinis statusas
Patentas neįsigaliojo (pagal EPK)
| (51) | INT.CL. | H01L 21/68 | (2006.01) |
| H01L 21/68 | (2013.01) |
| (11) | Patento numeris | 4075488 |
| (13) | Dokumento rūšis | T |
| (96) | Europos patento paraiškos numeris | 21167990.7 |
| Europos patento paraiškos padavimo data | 2021-04-13 | |
| (97) | Europos patento paraiškos paskelbimo data | 2022-10-19 |
| (45) | Paskelbimo apie Europos patento išdavimą data | 2024-02-28 |
| (46) | Apibrėžties vertimo paskelbimo data |
| (72) |
Stettner, Thomas , DE
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| (73) |
Siltronic AG ,
Einsteinstraße 172 Tower B / Blue Tower, 81677 München,
DE
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| (54) | VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITERSCHEIBEN MIT AUS DER GASPHASE ABGESCHIEDENER EPITAKTISCHER SCHICHT IN EINER ABSCHEIDEKAMMER |
| METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR WAFERS HAVING AN EPITAXIAL LAYER DEPOSITED FROM THE GAS PHASE IN A DEPOSITION CHAMBER |